Airmembrane, Yeni Nesil Yarı İletken Litografi Ekipmanları İçin 850 Milyon Yen Fon Sağladı

Yeni nesil yarı iletken litografi ekipmanları için grafen EUV pelikülleri geliştiren Airmembrane, toplamda yaklaşık 850 milyon JPY tutarında finansman sağladığını duyurdu.

BRIDGE tarafından bildirilen habere göre, bu finansman paketi üçüncü taraf tahsisli sermaye artırımı, Sumitomo Mitsui Banking Corporation'dan alınan kredi ve NEDO'nun GX alanındaki derin teknoloji girişimlerine yönelik uygulama araştırmaları, geliştirme ve seri üretim kanıtlama destek programı kapsamında verilen hibeden oluşuyor. Bu kalemlerin her birinin tutarı ayrı ayrı açıklanmadı ancak şirketin yatırım, kredi ve hibeler dahil toplam fonlama miktarı yaklaşık 1 milyar JPY'ye ulaştı.

Sermaye artırımı sürecinde Global Brain lider yatırımcı olarak yer aldı ve süreçte Global Brain'in yönettiği 9 numaralı fon, Takanawa Gateway Earth Benefit Investment Limited Partnership ile Shinhan-GB Future Flow Investment Limited Partnership görev aldı. Ayrıca Astart, KSP (NextG Investment Limited Partnership) ve Mitsubishi UFJ Capital (Mitsubishi UFJ Capital 9 numaralı fon) da yatırıma katıldı. Mitsubishi UFJ Capital için bu işlem ek bir yatırım niteliği taşıyor.

Şirketin geliştirdiği grafen EUV pelikülleri, gelişmiş yarı iletkenlerin EUV litografi sürecinde kullanılan koruyucu parçalardır. Bu parçalar, devrelerin ana kalıbı olan fotomaskelere küçük yabancı maddelerin yapışmasını önleyerek üretim sürecindeki verimlilik kaybını engellemeyi amaçlıyor. Ürünün seri üretimi için gereken yüksek kaliteli grafenin üretimi, şirketin Sanayi Teknoloji Geliştirme Kurumu'nda geliştirdiği sürekli sentez ve otomatik transfer teknolojisi ile çözüldü. Bu yöntem, sentez hızını önceki yöntemlere göre 100 kattan fazla artırırken, otomasyon sayesinde kusurları ve kirliliği ortadan kaldırıyor.

Airmembrane, elde edilen bu yeni fonları seri üretim sisteminin kurulması için kullanacak. Şirket, 2027 yılında kusur, homojenlik ve ömür yönetimini yüksek hassasiyetle sağlayacak bir ölçüm sistemi kurarak pilot üretime başlamayı, 2028 yılında ise yeni nesil EUV litografi ekipmanları için seri üretim hattını devreye almayı planlıyor.