Airmembrane pozyskuje około 850 milionów JPY na rozwój komponentów do litografii EUV

Firma Airmembrane pozyskała finansowanie w łącznej wysokości około 850 000 000 JPY.

Jak poinformował serwis BRIDGE, środki zostały zgromadzone poprzez emisję akcji dla stron trzecich, pożyczkę z Sumitomo Mitsui Banking Corporation oraz dotację w ramach programu wspierania badań, rozwoju i weryfikacji masowej produkcji dla startupów z obszaru głębokich technologii w sektorze GX, prowadzonego przez NEDO. Kwoty poszczególnych tych elementów nie zostały ujawnione, jednak całkowita suma pozyskanych funduszy, wliczając wcześniejsze inwestycje, pożyczki i dotacje, wyniosła około 1 miliarda JPY.

Głównym inwestorem w emisji akcji była firma Global Brain, a w rundzie uczestniczyły fundusze Takanawa Gateway, Shinhan-GB Future Flow, Astart, KSP oraz Mitsubishi UFJ Capital, dla której była to kolejna inwestycja.

Pozyskany kapitał zostanie przeznaczony na budowę systemu masowej produkcji. Zgodnie z planem, w 2027 roku firma zamierza wdrożyć system pomiarowy do precyzyjnego zarządzania defektami, jednorodnością i żywotnością, co pozwoli na rozpoczęcie produkcji pilotażowej. Uruchomienie linii masowej produkcji dla urządzeń do litografii EUV nowej generacji planowane jest na 2028 rok.

Airmembrane opracowuje membrany ochronne z grafenu do procesów litografii ekstremalnym ultrafioletem (EUV), które zapobiegają osadzaniu się zanieczyszczeń na fotomaskach, co mogłoby obniżyć wydajność produkcji półprzewodników. Firma wykorzystuje autorską technologię ciągłej syntezy i automatycznego transferu, opracowaną w Narodowym Instytucie Badań zaawansowanych w Przemysłowych Nauk i Technologii, co pozwala na zwiększenie prędkości syntezy ponad sto razy w porównaniu do dotychczasowych metod.

Oprócz membran, przedsiębiorstwo oferuje już produkty oparte na grafenie syntetyzowanym metodą osadzania z fazy gazowej, w tym chipy tranzystorów polowych z grafenu FR01, arkusze grafenowe o różnych rozmiarach, siatki TEM do analizy struktury białek w kriomikroskopii elektronowej oraz jednostki naświetlania UV do hydrofilizacji siatek TEM.