Airmembrane גייסה כ-850 מיליון ין לפיתוח רכיבים למכונות ליטוגרפיה של הדור הבא

חברת Airmembrane גייסה סכום כולל של כ-850 מיליון JPY.

כפי שדיווח BRIDGE, גיוס הכספים בוצע באמצעות שילוב של הנפקת מניות למשקיעים חיצוניים, הלוואה מבנק Sumitomo Mitsui ומענק מטעם NEDO במסגרת תוכנית לתמיכה במחקר, פיתוח והוכחת ייצור המוני עבור סטארט-אפים של טכנולוגיה עמוקה בתחום ה-GX. הסכומים הבודדים של כל אחד מהמקורות הללו לא פורסמו, אך סך הגיוסים המצטבר של החברה, כולל השקעות, הלוואות ומענקים, הגיע לכ-מיליארד ין.

המשקיע המוביל בהנפקת המניות היה Global Brain, כאשר הקרנות שניהלו את ההשקעה כוללות את קרן מספר 9, קרן Takanawa Gateway וקרן Shinhan-GB Future Flow. בנוסף אליהם השתתפו Astart, KSP ו-Mitsubishi UFJ Capital, כאשר עבור האחרונה מדובר בהשקעה נוספת.

החברה מפתחת פליקל EUV מגרפן, המשמש כרכיב הגנה בתהליך הליטוגרפיה של קרינה אולטרה-סגולה קיצונית לייצור שבבים מתקדמים. רכיב זה נועד למנוע הידבקות של חלקיקים זרים למסכה הפוטוגרפית, דבר שעלול להפחית משמעותית את אחוזי התשואה בתהליך הייצור. פיתוח המוצר דורש שילוב של דקיקות המאפשרת מעבר אור מקסימלי, עמידות בחום גבוה, יציבות כימית בסביבת פלזמה וחוזק מכני, תכונות שנמצאות לרוב בסתירה זו לזו.

כדי להתגבר על הקושי בייצור המוני של גרפן איכותי, השתמשה החברה בטכנולוגיית סינתזה רציפה והעברה אוטומטית שפותחה במכון הלאומי למדעים וטכנולוגיה תעשייתית. טכנולוגיה זו מאפשרת מהירות סינתזה הגבוהה פי 100 מהשיטות הקודמות ומפחיתה פגמים ולכלוך באמצעות אוטומציה.

הכספים שגויסו ישמשו להקמת תשתית לייצור המוני. החברה מתכננת להקים מערכת מדידה לניהול מדויק של פגמים, אחידות ואורך חיים כדי להתחיל ייצור פיילוט בשנת 2027, ולאחר מכן להקים קו ייצור המוני למכונות ליטוגרפיה של EUV בשנת 2028.

לפי BRIDGE.