Airmembrane haalt ongeveer 850 miljoen JPY op voor ontwikkeling van EUV-onderdelen

Airmembrane heeft een financiering van ongeveer 850 miljoen JPY binnengehaald.

BRIDGE meldde dat het bedrijf deze financiering heeft gerealiseerd via een combinatie van een kapitaalverhoging door toewijzing aan derden, een lening van Sumitomo Mitsui Banking Corporation en een subsidie. De subsidie werd toegekend via een project van NEDO ter ondersteuning van commercialiseringsonderzoek, ontwikkeling en massaproductiebewijzen voor deep-tech start-ups in het GX-domein. De specifieke bedragen voor elk van deze drie financieringsbronnen zijn niet bekendgemaakt, maar het totale cumulatieve bedrag aan opgehaald kapitaal, inclusief eerdere investeringen, leningen en subsidies, bedraagt nu ongeveer 1 miljard JPY.

Global Brain trad op als leidende investeerder bij de kapitaalverhoging. De financiering werd ondertekend door het 9e fonds van Global Brain, het TAKANAWA GATEWAY Earth Benefit Investment Limited Partnership en het Shinhan-GB Future Flow Investment Limited Partnership. Andere deelnemende partijen waren Astart, KSP via het NextG Investment Limited Partnership en Mitsubishi UFJ Capital via het Mitsubishi UFJ Capital 9e Investment Limited Partnership. Voor Mitsubishi UFJ Capital gaat het om een aanvullende investering.

Het bedrijf ontwikkelt een grafeen EUV-pellicle, een beschermend onderdeel dat wordt gebruikt in het proces van extreme ultraviolette lithografie voor geavanceerde halfgeleiders. Dit onderdeel voorkomt dat minuscule vreemde deeltjes op het fotomasker, het origineel van het circuit, terechtkomen, wat anders de opbrengst in het productieproces aanzienlijk zou verlagen. De ontwikkeling van een dergelijk product is complex omdat het tegelijkertijd extreem dun moet zijn voor maximale lichtdoorlatendheid, hittebestendig moet zijn, chemisch stabiel moet blijven in een plasma-omgeving en mechanisch sterk moet zijn.

Airmembrane heeft een methode voor continue synthese en automatische overdracht ontwikkeld om grafeen op hoge kwaliteit in massa te produceren. Deze techniek, ontwikkeld bij het National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, biedt een synthesesnelheid die meer dan 100 keer hoger is dan voorheen. De automatisering van het overdrachtsproces elimineert kleine defecten en vervuiling.

De nieuwe middelen zullen worden gebruikt voor het opzetten van een massaproductiesysteem. Het bedrijf is van plan om in 2027 een meetstructuur op te zetten voor het nauwkeurig beheren van defecten, uniformiteit en levensduur om te beginnen met proefproductie. In 2028 is het doel om een massaproductielijn voor volgende generatie EUV-lithografieapparatuur operationeel te hebben.